一、产品概述

1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途：

►设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；

►可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；

►镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；

►单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

 

二、技术参数

型号：JCP500

真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统

真空腔室尺寸：Φ500×H420mm

加热温度：室温～500℃

溅射方式：上下溅射可选

旋转基片台：Φ150mm

膜厚不均匀性：Φ100mm范围内≤±5.0%

溅射靶/蒸发电极：Φ3英寸磁控靶3支，兼容DC/MF/RF溅射

工艺气体：2~3路气体流量控制

控制方式：PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统

占地面积：(主机）L1900×W800×H1900mm

总功率：≥10KW