ME-L采用专利消色差双旋转补偿器设计,一次测量全穆勒矩阵元素,代表椭偏技术领域最高技术水平,可用于各向同性/异性薄膜、纳米光栅的快速测量表征。
1、分析光谱宽,可扩至193-2500nm
2、超快测量时间,单点测量时间1-8s
3、超高测量精度,重复性精度高达0.005nm
4、五维样件调制旋台,并支持自定义多功能样件台
5、配置可视化调平+微光斑系统,支持消背反测量能力
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