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武汉颐光科技有限公司是国内专业从事高端椭偏仪测量设备研发、制造与销售的高新技术企业。公司由多位具有二十多年偏振光学测量经验的专家联合创办，与华中科技大学紧密合作，是国内椭偏光学仪器领域最规模和技术优势的团队。
公司2013年9月注册成立于武汉东湖国家自主创新示范区，立足光谷，面向全球，为科研和工业用户提供纳米光学测量仪器、软件服务等综合解决方案，产品广泛应用于集成电路、光通讯、平板显示、光学镀膜、LED照明、光伏太阳能、生物医药、化学等众多领域。
颐光科技充分利用区域人才优势，立志成为中国最优秀的纳米光学仪器设备研发创新平台和产业化基地，立志成为国内外泛半导体领域企业与研究机构值得信赖的合作伙伴。
Mapping系列光谱椭偏仪采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析
1、全基片椭偏绘制化测量解决方案
2、支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量
3、配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力
4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力
SE-VE采用光谱椭偏测量技术紧凑集成化设计思路，一键快速测量分析，极致便捷用户操作体验，可用于各种微纳米级光学薄膜快速测量表征。
1、紧凑集成化设计，轻便、体积小
2、超快测量时间，单点测量时间0.5-5s
3、软件简约设计，极致用户操作体验
4、一键快速测量分析，人机交互设计，使用便捷
5、丰富的材料数据库和算法模型库
ME-L采用专利消色差双旋转补偿器设计，一次测量全穆勒矩阵元素，代表椭偏技术领域最高技术水平，可用于各向同性/异性薄膜、纳米光栅的快速测量表征。
1、分析光谱宽,可扩至193-2500nm
2、超快测量时间，单点测量时间1-8s
3、超高测量精度，重复性精度高达0.005nm
4、五维样件调制旋台，并支持自定义多功能样件台
5、配置可视化调平+微光斑系统，支持消背反测量能力
