反应腔体：横流模式的单腔反应腔/喷淋模式的双腔反应腔 等离子体产生方式：电容式CCP/电感耦合ICP 衬底规格：4-8寸单片；三维复杂衬底/粉末与颗粒/多孔及高纵深比材料；RT-400 oC，控制精度±0.5 oC@单腔；RT-500 oC，控制精度±0.5 oC@双腔 阀门：Swagelok专用ALD阀门，耐热温度200 oC 前驱体源：液态、固态、气态以及臭氧源，容器标准50 mL挥发式容器和100 mL载气辅助式容器，其他规格可定制；最高可配备8路前驱体源 等离子体气源：H2/O2/NH3/ N2 载气：Ar，质量流量控制器 管路源容器加热温度：配可拆卸加热套，RT-250 oC，控制精度±0.5 oC 真空系统：油泵、防腐油泵、干泵可选 压力传感器：检测范围1000-2.3*10-4 Torr 真空管路：烘烤至200℃，且真空泵前级配置热阱，加热温度300℃ 控制：触摸屏+PLC 机柜：可移动铝型材框架，不锈钢面板 尺寸：1280*800*1720mm 选配：臭氧发生器/粉末沉积盘/手套箱耦合/QCM；尾气处理装置