新一代紫外波长172nm，适用于一般实验室实现亚微米级加工；

超越365nm等传统光刻波长，体统新的实验方法；

有机聚合物衬底无需光刻胶，直接得到图形和沟道；

光刻分辨率：<0.5um，典型值可达0.35um；

快速：典型30-100s一次光刻；

可置于手掌的紫外光刻-表面处理系统；

无需超净间，办公桌就可完成光刻。