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迈纳德微纳技术有限公司成立于2009年,是国家高新技术企业。公司致力于国产镀膜制备技术及设备的研发和生产，现主要产品包括：原子层沉积系统、在线光电测量系统，火焰喷涂设备以及等离子体相关设备，同时接受制作通用或客户定制的纳米涂层产品等。
公司的业务主要包括：制作通用纳米涂层产品，生产通用纳米涂层制备设备以及客户定制的纳米涂层产品以及批量化生产设备。使用 ALD 技术制备的薄膜具有非常好的厚度可控性和均匀性、保型性、无针孔度、以及致密性，可广泛应用于微电子、生物医用、光电、催化剂、储能技术、太阳能有机光伏器件等。
已在国内外交付近300台设备，最长使用客户超过10年，设备均运行良好。公司与各用户紧密配合，合作开发相关工艺。
反应腔体：横流模式的单腔反应腔/喷淋模式的双腔反应腔
衬底规格：4-12寸单片；三维复杂衬底/粉末与颗粒/多孔及高纵深比材料；RT-400 oC，控制精度±0.5 oC@单腔；RT-500 oC，控制精度±0.5 oC@双腔
阀门：Swagelok专用ALD阀门，耐热温度200 oC
前驱体源：液态、固态、气态以及臭氧源，容器标准50 mL挥发式容器和100 mL载气辅助式容器，其他规格可定制；最高可配备8路前驱体源
载气：N2或者Ar，质量流量控制器
管路源容器加热温度：配可拆卸加热套，RT-250 oC，控制精度±0.5 oC
真空系统：油泵、防腐油泵、干泵可选
压力传感器：检测范围1000-2.3*10-4 Torr
真空管路：烘烤至200℃，且真空泵前级配置热阱，加热温度300℃
控制：触摸屏+PLC
机柜：可移动铝型材框架，不锈钢面板
最小尺寸：720*700*1000mm
最大尺寸：1000*1000*1000 mm
选配：臭氧发生器/粉末沉积盘/手套箱耦合/QCM；尾气处理装置
