一、产品概述

1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途：

►设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；

►适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等；

►适用于制备光学薄膜、导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等。

二、技术参数

型号:TEMD500

真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统

真空腔室尺寸:Φ500×H650mm

加热温度:室温～300℃

旋转基片台:平板型Φ200mm

膜厚不均匀性:≤±5.0%

考夫曼离子源:可选

蒸发源:电子枪8KW，6穴坩埚 国产进口可选，配3-3组电阻蒸发

控制方式:PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统

占地面积:长×宽 L2500×W1600mm

总功率:≥17KW