1、该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀； 2、可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。 该款设备是全自动Plasma增强CVD系统（PECVD）,系统可以实现连续滑动温区，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。