展品介绍：本品是在超高真空条件下，通过蒸镀方式，在样品基底上生长薄膜的设备，样品温度可控

主腔室真空度：好于1*10-10mbar

四维移动平台：

XY方向移动范围：±12.5mm

Z方向移动范围：100mm，用户可选择

Z轴可旋转±180°

展品介绍：本设备是在超高真空条件下，原位探测反应产物粒子的质量信息的程序升温脱附系统

真空度：主腔室好于1*10-10mbar，探测区域好于2×10-11mbar

四维移动平台：

XY方向移动范围：±12.5mm

Z方向移动范围：100mm，可选择

Z轴可旋转±180°