1、更⾼读出速度:最⾼可达20000fps

2、直接电⼦探测，提供优异的信噪⽐，满⾜低剂量（Low-dose）成像要求

3、更耐辐照：10e17@300keV

4、更宽探测范围:5keV~300keV

5、更⼤动态范围: 10e-3到10e7 per mm²/Sec

6、特别适合4D-STEM/DPC

Ibss 产品持续致力于等离子清洗设备的开发，特别是针对电子束等易产生积碳应用场景下等离子清洗设备的开发，其专利的DownStream技术能够保证等离子体中不含电荷或离子态的物质存在，从而可以最大程度降低等离子体对样品表面的损伤，同时能够保证线性清洗效果，从而满足定量去除制样的需求。该公司产品全球销售总量超过1000台，中国地区知名用户如：北京大学、上海光源、SMIC、YMTC/XMC、TSMC、Infineon等。

SEM Mill 作为采用尖端技术制造的离子束切割抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备能力，能够在最短时间内解决各类扫描电镜制样困难材料的制样问题，同时具备紧凑、精确以及高稳定性的优点。

Fischione微束定点离子刻蚀仪（型号：1040）主要用来对半导体集成电路、芯片、器件等样品的刻蚀处理，从而获取该类样品的线路结构，该产品主要由聚焦离子枪及高压电场、配套真空系统、触屏控制系统、配套线缆及气路等等部分组成。

Fischione微束定点离子刻蚀仪（型号：1040）主要技术参数：

1、加工离子能量范围需包括：50eV ~ 2keV；

2、离子束束斑尺寸：≤1μm，可精确定位制备样品；

3、样品台倾转角度：-12度 ~ +30度，连续可调；

4、最大离子束流：≥1mA/cm2。